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Résultats scientifiques
Réalisation de cristaux photoniques opérant dans l’UV, par lithographie interférentielle et gravure plasma.
Un des défis du projet est de développer des procédés permettant de réaliser des cristaux photoniques de très faible période (230nm) et sur de grandes surfaces (plusieurs centimètres carrés).
En combinant le banc de lithographie interférentielle et de gravure ionique réactive du Laboratoire Hubert Curien et de l’INL, des cristaux photoniques bidimensionnels ont pu être réalisés avec une très bonne homogénéité. Leurs propriétés optiques particulières permettent d’augmenter considérablement l’absorption de la lumière autour de 380nm.
Cristaux photoniques 2D (obtenus par lithographie par interférence laser et gravure plasma). A gauche, réseau imprimé dans la résine photosensible (période de 230 nm). A droite, vue au microscope électronique à balayage de la structure après gravure.
Cristaux photoniques 2D (obtenus par lithographie par interférence laser et gravure plasma). A gauche, réseau imprimé dans la résine photosensible (période de 230 nm). A droite, vue au microscope électronique à balayage de la structure après gravure.
